Riposo nella fuga in Egitto
Tipo:
Opere; stampa smarginata stampa di invenzione; Immagine fissa
Categoria:
Stampe/Incisioni/Matrici
Autore:
Soggetto:
sacro
Riposo nella fuga in Egitto
Estensione:
altezza: mm 225; larghezza: mm 277
Materia e tecnica:
acquaforte
Data di creazione:
1587 ante; sec. XVI; 1587
Ambito geografico:
Raccolte Grafiche e Fotografiche del Castello Sforzesco - Raccolta delle Stampe Bertarelli, Piazza Castello - Milano (MI), Italia, inv. Reg. Ingr. 6001 (1976) - proprietà Comune di Milano
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Riferimenti
È riferito da: scheda ICCD S: 0302036163
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Fonte dati
Identificatore: work_2933
Diritti
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